rapid thermal annealing
((также rapid thermal anneal, RTA))
быстрый термический отжиг, быстрая термическая обработка, технология RTA # технология кратковременного (миллисекундного) нагрева участка поверхности тонкой плёнки или полупроводниковой пластины (wafer) с помощью мощной лампы-вспышки (flash lamp annealing) или импульсного лазера (pulsed laser annealing); входит в набор технологий rapid thermal processes, RTP, применяемых в полупроводниковом производстве для выполнения таких операций, как dopant activation, thermal oxidation, metal reflow и chemical vapor deposition
Связные термины
flash lamp annealing
